等離子刻蝕是太陽能電池片的生產工藝流程（chéng）之一，其他流程有矽片檢測、表（biǎo）麵製（zhì）絨及酸洗、擴散製結、去磷矽玻（bō）璃、鍍減反射膜、絲網印刷（shuā）、快速（sù）燒結等。東莞市日本人人交真空科技（jì）有限公司旗下的真空係統在等離子刻蝕中的應用是陽能電池片製造企（qǐ）業所采用的，因為日本人人交真空係統具有真空（kōng）度高、性（xìng）能穩定、壽命長（zhǎng）、操作簡單維護方便，噪音少等特（tè）點。

我們（men）先來了解一下等（děng）離子刻蝕是一個什麽樣的過（guò）程。

由於在擴散過程中，即使采用背靠背擴散，矽片的所有表麵包括邊緣都將不可避免（miǎn）地擴散上（shàng）磷。PN結的正麵所收集到（dào）的光生電子會沿著邊緣擴散（sàn）有磷的區域流到PN結的背麵，而造成短路。因此，必須（xū）對（duì）太陽能電池周邊的摻雜矽（guī）進（jìn）行刻蝕，以去除電池邊緣（yuán）的PN結。通常采用（yòng）等離子刻蝕技術（shù）完（wán）成這一工藝。等（děng）離子刻蝕是在（zài）低壓狀態下，反應氣體CF4的母體分子在（zài）射頻功率的激發下，產（chǎn）生電離並形成等離子體。等離子（zǐ）體是由帶電的電子和離（lí）子組成，反應腔體中的氣體在（zài）電子的（de）撞擊下，除了轉變成離子外，還能吸收能量並形成大量的活性基團。活性反應基團由於擴散或者在電場作用下到達SiO2表麵（miàn），在那（nà）裏與被刻蝕材料表麵發生化學反應（yīng），並形成揮發性的反應生成物脫離被刻蝕物質表（biǎo）麵，被真空係統抽出腔體。

等離子刻蝕機結構主要包括預真（zhēn）空室、刻蝕腔、供氣係統和真空（kōng）係統四部分。

1.預真空（kōng）室

預真空（kōng）室的作用是確保刻蝕腔內維持在設定的（de）真空度，不受外界環境（如：粉塵、水汽）的影響，將危險（xiǎn）性氣體與潔淨廠房隔離開來（lái）。它由蓋板、機械手、傳動機構、隔離門等組成。

2.刻蝕腔體

刻（kè）蝕腔體是ICP 刻蝕設備的核心結構，它對刻蝕速（sù）率、刻蝕的垂直度以及粗糙度都有直接的影（yǐng）響。刻蝕腔的主（zhǔ）要組成有：上電極、ICP 射頻單元、RF 射頻單元、下電極係統、控溫係統等組成。

3.供氣係統

供氣係統是向刻蝕腔體輸送各種刻蝕（shí）氣體，通過壓力控製器（PC）和質量流量控製器（MFC）精準的控製氣（qì）體（tǐ）的流（liú）速和流量。氣體供應係統由（yóu）氣源瓶、氣體輸送管（guǎn）道、控製係統、混合單元等（děng）組成。

4.真空係統

真（zhēn）空係（xì）統（tǒng）有兩套（tào），分別用於預真空室（shì）和刻蝕腔體（tǐ）。預真空室由機械泵單獨抽真空，隻有在預真空室真空度達到設定值（zhí）時，才（cái）能（néng）打開隔（gé）離門，進行傳送片。刻蝕腔體的真空由機（jī）械泵（bèng）和分子泵共（gòng）同提供，刻蝕腔（qiāng）體反應生成的氣（qì）體也由真空係統排（pái）空。

日本人人交真空係統在等離子刻蝕中的應用的作用是可以除去太陽電池周邊的在擴（kuò）散（sàn）工藝中在（zài）矽（guī）片的表麵和周邊都擴散了N型結（jié），如果不去除周邊N型結會（huì）導致電池片正負極被周（zhōu）邊N型結連接起來時電池正負極相（xiàng）通起不到電池的作用。如果矽片未刻蝕或刻（kè）蝕不淨沒及時發現（xiàn）並下傳印刷將產生低並組片。我們可以通過（guò）紅外熱成像儀檢測並判斷低並組是否由（yóu）刻蝕原因產生的（de）。