等離子清洗（xǐ）（PLASMA）是一（yī）種（zhǒng）依靠處於“等離子態”的物質的“活化作用”，來去除（chú）物體表（biǎo）麵汙漬的（de）一種清洗方法。它屬於電（diàn）子工業清洗中的幹（gàn）法清（qīng）洗，過程中需要真空泵製（zhì）造一定（dìng）的（de）真空條件滿足清洗所需，東（dōng）莞市日本人人交（kè）真空科技有限公司（sī）來（lái）說說旋片真空泵（bèng）在等離子清洗技術中的應用過（guò）程是怎（zěn）麽一回事，以及講（jiǎng）解（jiě）一下旋片真空泵具有什麽特點。

等離（lí）子清洗所需要的等離子體主要（yào）通過特定的氣體分（fèn）子在真空（kōng）、放電等（děng）特殊場合下產生，像低壓氣（qì）體輝（huī）光等（děng）離子體。簡（jiǎn）單地如開頭說，等離子清洗需要（yào）在真（zhēn）空狀態下進行（一般需保持在100Pa左右），所以需要德國旋片真空泵進行抽真空作業（yè）。

等離子清洗用旋片（piàn）真空泵的過程是如何的？

其主要過程包括：首先將需（xū）要清洗的工件送入真空室（shì）固定，啟動旋片真空泵等裝置開始（shǐ）抽真（zhēn）空排氣到10Pa左右的真（zhēn）空度；接著（zhe）向（xiàng）真空室引入等離（lí）子清洗用的氣體（根據清洗材質的不同，選用的氣體也（yě）不同，如氧氣、氫氣（qì）、氬氣、氮氣等（děng）），並將壓力保持在100Pa左右；在真空室內的電極與（yǔ）接地裝置之間施加（jiā）高頻電壓，使氣（qì）體被擊穿，並通過輝光放電使其發生離子化，產生等離子體；在真空室內（nèi）產生的等離子體完全覆（fù）蓋（gài）被清洗（xǐ）工件後，開始清（qīng）洗（xǐ）作業，清洗過程（chéng）會持續（xù）幾（jǐ）十秒到幾分鍾。整個過程就是依靠等離子體在電磁場內空間運動，並轟擊被處（chù）理（lǐ）物體（tǐ）表麵，從而達到表麵處理、清洗和刻蝕的效果（清洗過程某（mǒu）種程度就是輕微的蝕刻工藝）；清洗完畢後，排出汽化的汙垢及清洗氣體，同時向真空室內送入空氣恢（huī）複至正常大氣壓。

清洗過程（chéng）中，在旋片真空（kōng）泵控製真空室的真空環境時，氣體（tǐ）的流（liú）量決定了發光色度（dù）：如果色度（dù）較重，說明真空度低，氣體（tǐ）流量較大；而偏白時，則是真空度過高，氣體流量（liàng）較小（xiǎo）；具體需要根據所需的處理效果，來確定真空泵要實現的真（zhēn）空度。

等離子清洗技術不分處理對象（xiàng）的基材類型（xíng），對金屬、半（bàn）導體、氧化物和大多數高（gāo）分子材料（如（rú）聚丙烯（xī）、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙（yǐ）烷、環氧、甚至聚四氟乙烯）等（děng）原基材料都能很好處理，並可實現（xiàn）整（zhěng）體和局部以（yǐ）及複雜結構的清洗（xǐ），還（hái）具（jù）備環保、安全、易控製等優（yōu）勢，因此（cǐ）在很多方麵，尤其是精密件清洗、新半導體材料研究以及集成電路器件（jiàn）製造業中逐漸取代了（le）濕法清洗工藝。

日本人人交旋片真空泵在等離子清洗技術中的應用同國內同類其他產品相比的優點：

1.使用方便，安（ān）裝，維護簡單；

2.旋片真空泵設有氣鎮閥，可抽除少量水（shuǐ）蒸氣；

3.旋片真空泵的極限真空度高；

4.內裝強製進油，潤滑充分（fèn），性能可靠；

5.設有自動防返油雙重保險裝置；

6.保持進氣壓強為1.33×10Pa時仍可連續運轉；

7.不漏油、不噴油、不汙染工（gōng）作環境。