眾（zhòng）所周知，半導體工藝水平決定了晶體管尺寸大（dà）小（xiǎo）。在半導體廠或光電廠中，真空係統應用於提供製程設備的真（zhēn）空吸（xī）盤或吸筆來搬運（yùn）傳送（sòng）晶片或玻璃，為半導體製程中相當重要之支援係統。本篇文章涉及半導體製（zhì）程技術領域，在介紹真空係統在半導體（tǐ）製程中的應用之前，我（wǒ）司打算先對半導體製程（chéng）和真空（kōng）係統做（zuò）些簡單的介紹。

在真空係統中（zhōng），真空針對大氣而言，表示一（yī）特定空間或係統內（nèi）部分氣體被排出，其內部空間的壓力小（xiǎo）於大氣壓力（lì），則稱此空間為真空或為真（zhēn）空狀態（tài），簡單言之，空間內（nèi）壓力低於（yú）一大氣壓力（lì）即為真（zhēn）空。在高科技製程中所要求的高真空或超高真空，就必（bì）須要有足（zú）夠（gòu）的真（zhēn）空技術或設備才能達成。

半導體製程專用真空係統的（de）真空度要求一般為700-~500mmHg之（zhī）間，僅（jǐn）落在粗略真空範圍內，而製程設備真空度要（yào）求則視其應用範圍而定，而落在（zài）中真空度與（yǔ）超高真空度或以上之範圍。

不同（tóng）類（lèi）型的真空泵組合而成的係統，真空度也有所不一樣，關於真空係統的類型（xíng），東莞市日本人人交真空科技有限公司整理出幾大類。

真（zhēn）空（kōng）係統的類型有三種：

1.低真空係統

2.中真空係統

①由羅茨泵為主泵串聯機械泵而構成的係（xì）統；

②由油增壓泵為主泵串聯機械泵而構成的係統；

③由羅茨泵串聯（lián）小羅茨泵，再串聯機械泵而構成的係統。

3.高真空係統

①由擴散泵為主泵串聯羅茨泵，再串聯機械泵而構成的係統（tǒng）；

②由（yóu）擴散泵為主泵串聯機械泵（bèng）而構（gòu）成的真空係統；

③由擴散泵為主泵串聯油增壓泵，再串聯機械泵而構成（chéng）的真空係統。

根據上述所提到的內容，在半導體製（zhì）程中，最佳的方法（fǎ）就是選擇應用高真空係統，高真空係統可以由不同的真空（kōng）設備組（zǔ）合而成。

事實上簡單（dān）的真空係統隻是能獲得一個粗真空（kōng），而想要獲得高真空時，通常在真空係（xì）統中串聯（lián）一個高真空泵，比如羅茨泵和螺（luó）杆泵（bèng）等都是獲得高真空的泵。當串（chuàn）聯一個（gè）高真空泵之後，通常要在高真空泵的（de）入口和出口（kǒu）分別加上閥門，以（yǐ）便高真空泵（bèng）能單獨保持真空。如果所串聯的高（gāo）真空（kōng）泵是一個油擴散泵（bèng），為了防止大量的（de）油蒸氣返流進入被抽容器，通常在（zài）油擴散泵的入口加一（yī）個捕集器——水（shuǐ）冷障板。根據要求，還可以在管路中加上除塵（chén）器、真空繼電器規頭、真空（kōng）軟連接管道、真空泵入口放氣閥，散熱器等等（děng），這樣就構（gòu）成（chéng）了一個較完善的高真（zhēn）空係統。

關於半導（dǎo）體製程和真空（kōng）係統，小編就介紹到這（zhè）裏，如果您仍對（duì）真（zhēn）空（kōng）係統在半導體製程中的應用有什麽疑惑的話，隨時可以聯（lián）係我司（sī）。