真空泵廠家分析真空壓力控製係統如何優化。芯片的刻（kè）蝕（shí）工藝通常要在一個受控的真空環境下工作，反應腔的功能是（shì）在真空環境中保持工藝參數需要（yào）的壓力，去（qù）除（chú）不需要的水汽、空氣（qì）和附加反應物；創（chuàng）建一個能（néng）夠使等離子體發生反應的真空環境。為了降低刻蝕機真空壓力控製係統（tǒng）的成本，實現高真空獲得設備（bèi）的清潔化、簡單化和微型化，同時為（wéi）了提（tí）高（gāo）真空係統的抽氣速率和極限（xiàn）真空，係統中的腔、真空泵以及連接管（guǎn）路和閥門的選配是很重要的。

刻蝕機為了保證刻蝕工藝（yì）需（xū）要的（de）穩定工作壓力，大抽速真空係統是必不（bú）可少（shǎo）的組成部分。日本人人交真空（kōng）泵廠家詳細地介紹（shào）反應腔、真空泵的選擇（zé）、真空閥門的選配、真空計和真空檢測開關、真空計和真空檢測開關和連接管路（lù）。

真空泵廠（chǎng）家分析真空壓（yā）力控製係統如何優化？要從以下五個方麵展開：

⑴反應腔

反應腔是真空係統的基本部件，不同刻蝕的反應腔形狀和大小不同，但都屬於受負壓的容器（qì）。為了增加芯片產（chǎn）能的需要反應腔采（cǎi）用的是多工位設計，這（zhè）就需要真空泵的抽（chōu）速滿足其要求（qiú）。多工位設計要保證多個工位芯（xīn）片的均勻性（xìng）是很難的。必須（xū）加（jiā）大真空泵的抽氣速率，分子泵是（shì）最好（hǎo）的（de）選（xuǎn）擇。根據不同工藝的需要，反應腔的工作壓力一般在10^-3-10^-2Torr之間，既要保（bǎo）證反應（yīng）腔的真空度，又要保證工藝氣體的壓力，確保反（fǎn）應腔工作在真空穩定的狀態下，這一直（zhí）是真空泵廠家研究（jiū）的課題。

⑵真空（kōng）泵的選擇

真空（kōng）泵是獲得真空的關（guān）鍵設備，至今還沒（méi）有一種泵能從（cóng）大氣壓一直工作到接近超（chāo）真空，必須兩種或以（yǐ）上的泵聯合使用，螺杆式幹泵屬於容積泵類型，其工作循環可（kě）分為（wéi）吸氣、壓縮和排氣三個過（guò）程，其優點是結構穩定，重心低，轉動平穩，振動小，噪音（yīn）小。分子泵有牽（qiān）引分子泵、渦輪分子泵和複合式分子泵等，分子泵（bèng）的選型根據刻蝕反應腔壓力和容積的不同（tóng）而不同（tóng）。

⑶真（zhēn）空閥門的選配

選擇鍾（zhōng）擺閥是為了配合（hé）分子泵大口徑尺寸的需要（yào），鍾（zhōng）擺閥的開度大反應（yīng）腔（qiāng）的壓力就減小，但是當開（kāi）度大到一定程度時，由於泵（bèng）的抽速有限，反應腔的真空就被限製住了，真空（kōng）壓力就不能（néng）繼續減小。所以要（yào）選擇鍾擺閥適合的工作開（kāi）度，以滿足刻蝕工藝工作壓（yā）力的（de）要求。

⑷真空（kōng）計和真空檢測開關

真空計能時刻監控反應腔和管（guǎn）路的壓力，在反應腔和管路（lù）上設置真空計，當真空度達到（dào）一定值時（shí），開啟或關閉真（zhēn）空閥門。真（zhēn）空計的分類主要（yào）有兩種方法：①按真計讀（dú）數的刻度方法進行分類（lèi），即絕對真空計（jì）和相對真空計；②按真空計測量原理進行分類，即直接測量真空計和間接測量真空計。薄膜（mó）式電容真空計是間接測量的絕對真空（kōng）計，由於具有性能穩定，重複性好（hǎo），而（ér）且其響應速（sù）度快，抗過（guò）載能力強，結構（gòu）牢固（gù），使用方便的特點，因此被業界廣泛應用。為了安全考慮，真空管路必須設置大氣真空（kōng）開關，當（dāng）壓（yā）力（lì）值（zhí）達（dá）到一個大氣壓時真空（kōng）開關自動打開排氣，保護反應（yīng）腔和管路係統的（de）真空儀器。

⑸連接管（guǎn）

真空係統最重要的性能參數是其所能獲得的極（jí）限（xiàn）真空度（dù）和對（duì）反應腔的有效抽速，真空係統的極限真空度（dù）是指在沒（méi）有外加負荷的情況下（xià），經過足夠長（zhǎng）時間的抽氣後，係統所能達的最低壓力。

進口真空泵廠家表示任何真（zhēn）空係統絕對不漏的現象是不可能的，所以（yǐ）真空管路上需要（yào）設置檢漏口，方便進行真空檢漏。