蒸發鍍膜設備是製作（zuò）光學（xué）薄膜的主要手段（duàn）。隨著光學薄膜的發展，傳統的電阻蒸發鍍膜設（shè）備性能漸趨不能滿足要求，為此，東莞市日本人人交真（zhēn）空科技有限（xiàn）公司對鍍膜設（shè）備的設計（jì），即鍍膜室的布局及真空（kōng）係統的（de）配置進行了改進，以適應使用需求（qiú）。電阻蒸發鍍膜設備應用廣泛，主要用於汽（qì）車反光網、燙鑽、工藝品、首飾、鞋帽（mào）、鍾表、燈具、裝飾、手機、DVD、MP3、PDA外（wài）殼、按（àn）鍵、化妝品外殼、玩具、聖誕禮品等行業。接（jiē）下來小編將會為大家介紹下真空係統在蒸發（fā）鍍膜設備中的應用的相關知識，希望對各位有一定的幫助。

什麽是電阻蒸發鍍膜設備？其結構和工（gōng）作原理是什麽？

電阻蒸發鍍膜設備是在真空室中利用電（diàn）阻加熱法，將緊（jǐn）貼（tiē）在電阻（zǔ）絲上的（de）金屬絲（鋁絲）熔融汽化，汽化了的金屬分子沉（chén）積於基（jī）片上，而獲得光滑（huá）高（gāo）反射率（lǜ）的（de）膜層，達到（dào）裝飾（shì）美化物品表麵的（de）目的。

它（tā）的結構可為立臥式雙開門結構，成膜速率快，色澤鮮亮，膜層不易受汙染，可獲得（dé）致密性好（hǎo）、純度高、膜厚均勻（yún）的膜層，不產生廢液、廢水，可避免對環境汙染（rǎn），屬環保設備。

它的（de）工作原理是在真（zhēn）空室（shì）中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化，汽化了的金屬分子沉積（jī）於基片上，而獲得光（guāng）滑高反射率的膜層，達到裝飾美化物品表麵的目的。

蒸發鍍膜過程中，從膜材表麵（miàn）蒸發的粒子以一定（dìng）的速度在空間（jiān）沿直線運動，直到與其他粒子碰撞為止。在真空室內，當氣相中的粒子濃度和殘餘氣體的壓力足夠低時，這些粒子從蒸發源到基片之（zhī）間可以保持直線飛行，否則，就會產生碰撞而改變運動方向。為此，增加殘餘氣體的平均（jun1）自由程（chéng），以減少其與蒸（zhēng）發粒子的碰撞幾率，把真空室內抽成高真空是必要（yào）的。

本文主要概述真空係統在蒸發鍍（dù）膜設備中的應用是（shì）在真空條件下，用蒸發器加熱蒸發（fā）物質，使之汽化，蒸發粒（lì）子流直接射向基片並在基片上沉積（jī）形成固態薄膜的技術。蒸鍍是PVD技術中發展最早，應（yīng）用較為廣（guǎng）泛的鍍膜技術，盡管後（hòu）來發展（zhǎn）起來的濺射鍍和離子鍍在許多方麵要（yào）比（bǐ）蒸發鍍（dù）優越，但（dàn）真空蒸發鍍膜技術仍有（yǒu）許多優點，如（rú）設備與工藝相對比較（jiào）簡單，可沉積非常純淨的膜層等等，因此，真空蒸發鍍膜仍然是當今非常重要的鍍膜技術。近年來（lái）由於電子轟擊蒸發，高（gāo）頻感應蒸發以及激光蒸發等技術在蒸（zhēng）發鍍膜技術中的廣泛應用，使這一技（jì）術更趨完善。